Hua Zhang, Shinya Hagihara, and Kenichiro Itami
Chem. Lett. 2015, ASAP. DOI: 10.1246/cl.150154
ニッケル触媒によるC-Hホウ素化反応に成功した。ニッケルビスシクロオクタジエン、トリシクロペンチルホスフィン、フッ化セシウム存在下において、ベンゼン誘導体およびインドール誘導体がホウ素化できる。水素と重水素との反応速度差より、炭素水素結合開裂が律速段階であることが示唆された。
Hua Zhang, Shinya Hagihara, and Kenichiro Itami
Chem. Lett. 2015, ASAP. DOI: 10.1246/cl.150154
ニッケル触媒によるC-Hホウ素化反応に成功した。ニッケルビスシクロオクタジエン、トリシクロペンチルホスフィン、フッ化セシウム存在下において、ベンゼン誘導体およびインドール誘導体がホウ素化できる。水素と重水素との反応速度差より、炭素水素結合開裂が律速段階であることが示唆された。